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Leybold萊寶電容薄膜真空計（CTR100）

工作原理

l電容測量原理：該真空計基于薄膜與固定電極之間的電容變化進行壓力測量。當壓力改變時，薄金屬膜會相對于電極位置發生變化，從而導致電容改變，且電容變化與壓力變化成正比。

l氣體類型無關性：由于薄膜位置的變化只與壓力有關，與氣體類型無關，因此無論測量何種氣體，變送器都能提供相同的輸出信號，無需進行氣體校正。

性能特點

l高精度與高重復性：具有出色的精度，在不同測量范圍有不同的精度表現，如范圍≥1 托時，精確度為讀數的 0.20%；0.1 托范圍時，精確度為讀數的 0.50%。同時，測量重復性好，能為真空測量提供可靠的數據。

l良好的溫度補償：無論環境條件如何變化，都能實現非常好的溫度補償，確保測量結果不受溫度波動的影響。

l高耐腐蝕性：采用純焊接 Inconel® 和 Incoloy® 鎳合金材料，傳感器高度耐腐蝕性，能抵御常見工藝化學品、氧化、滲碳、點蝕、縫隙腐蝕、腐蝕開裂和高溫等的侵害，適用于各種腐蝕性環境。

l快速準確響應：對壓力變化響應迅速，在全量程范圍≥1 托時，從全量程的 0% 至 90%，響應時間僅為 40 毫秒；對于 0.1 托，從全量程的 0% 至 90%，響應時間為 80 毫秒，能夠及時準確地反映真空系統中的壓力變化。

l高過壓承受能力：具有較高的過壓額定值，能夠承受壓力突變而不會遭受物理損壞或校準偏移，提高了設備的可靠性和穩定性。

l多種通信接口：配備 RS232 數字通信接口，可用于設定變送器參數并提供實時壓力測量；同時還具有 0-10 伏直流模擬輸出信號，可連接至外部模擬設備進行壓力讀數或壓力控制。

Leybold萊寶電容薄膜真空計（CTR100）

技術參數

應用領域

l半導體行業：用于半導體制造過程中的薄膜沉積、蝕刻、離子注入等工藝的真空測量和控制，確保工藝的穩定性和一致性。

l化學工業：適用于化學氣相沉積（CVD）、真空蒸餾、真空干燥等工藝，以及腐蝕性氣體環境下的真空測量與控制。

l材料處理：如真空爐、陶瓷燒結、物理氣相沉積（PVD）等過程中的真空度監測和控制，有助于提高材料的質量和性能。

l分析儀器：可與電子顯微鏡、熱分析儀、質譜儀等分析儀器配合使用，為儀器提供準確的真空環境測量。

l其他領域：還可應用于 LED 和太陽能電池制造、真空鍍膜、真空包裝等領域的真空測量和控制。