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　　實驗室鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE 分子束外延，PLD 激光濺射沉積等很多種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
 

　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
 

　　2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
 

　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
 

　　4.主要用途：
 

　　1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
 

　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 

　　3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 

　　5.應用領域：
 

　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
 

　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。