熱蒸發鍍膜設備適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
熱蒸發鍍膜設備產品特點/用途：
設備一體化設計，占地面積小，性能穩定，使用維護成本低；
設備配備4～6組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等；
適用于蒸發鍍膜與手套箱環境有機融合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統等。
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
4.主要用途：
1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、 銅、C60、BCP......
5.應用領域：
1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。
6.小型實驗設備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業的服務確保用戶省心省力
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