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化工儀器網>產品展廳>配件耗材>其它儀器配件耗材>其它儀器配件> 納米壓印膠 正性/負性光刻膠 顯影液去膠液

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納米壓印膠 正性/負性光刻膠 顯影液去膠液

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冠乾科技Grant Technology 有限公司創立于中國上海。 公司為用戶提供先進可靠的設備及、

儀器技術,為客戶把握工藝過程,得到優質的結果而服務。
Grant是“授予”的意思,希望公司能夠成為一個平臺,以用戶能夠得到上更新更快的技術資訊,技術方案為企業目標。

冠乾科技追求品質產品、專業的應用和完善的售后服務,我們是您可以信賴的合作伙伴。

工藝設備:真空鍍膜機;離子束刻蝕機,ICP刻蝕機,等

產品線豐富,元素分析:原子吸收,氣相色譜,液相色譜,氣質聯用,紫外分光光度計等; 熱分析:材料表面分析:原子力顯微鏡,光學輪廓儀,摩擦磨損等;  通用分析:掃描電鏡,

實驗室儀器
原子吸收光譜儀
近紅外光譜儀
紫外分光光度計
電化學工作站
紅外光譜儀
鍍層測厚儀
數字顯微鏡
影像測量儀
Wafer 粗糙度檢測
3D 輪廓儀
超景深顯微鏡
TTV 測試
掃描探針顯微鏡
臺式掃描電鏡

其他儀器:
四探針測試
離子減薄機

 

原子力顯微鏡,摩擦磨損試驗機,超景深顯微鏡,鍍膜機

供貨周期 一個月 應用領域 化工,生物產業,電子/電池,綜合

Negative Photoresists

Positive Photoresists

Resist Removers

Resist Developers

Edge Bead Removers

Planarizing, Protective and Adhesive Coatings

Spin-On Glass Coatings

Spin-On Dopants

曝光

應用

特性

對生產量的影響

i線曝光用粘度增強負膠系列

在設計制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮(Polyioprene-Bisazide)的負膠。

在濕刻和電鍍應用時強大的粘附力;很容易用去膠液去除。     單次旋涂厚度范圍如下:﹤0.1200 μm可在ig以及h-line波長曝光

避免了基于有機溶劑的顯影和沖洗過優于傳統正膠的優勢:控制表面形貌的優異線寬 任意甩膠厚度都可得到筆直的側壁
單次旋涂即可獲得200 μm膠厚
厚膠同樣可得到高清的分辨率

150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間
優異的感光度進而增加曝光通量
更快的顯影,100 μm的光刻膠顯影僅需6 ~ 8分鐘光刻膠曝光時不會出現氣泡
可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠
不必使用增粘劑如HMDS

gh線曝光用粘度增強負膠系列




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