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上海力晶科學(xué)儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第14年

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ARL QUANT X 能量色散-X射線熒光光譜儀
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更新時(shí)間:2024-11-26 21:00:06

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ARL Quant’X 熒光能譜儀
應(yīng)對(duì)RoHS指令 ――快速分析
超大Si(Li) 晶體,具有*的痕量分析的靈敏度,打破lng的檢測(cè)限壁壘
全數(shù)字脈沖處理器技術(shù),死時(shí)間達(dá)60%, 以及優(yōu)異的峰背比
高級(jí)FP無(wú)標(biāo)樣分析軟件,進(jìn)行無(wú)標(biāo)樣分析,減少對(duì)標(biāo)樣的依賴(lài)性
高靈敏電制冷Si(Li) 探測(cè)器技術(shù), 儀器免維護(hù)和*運(yùn)行

一、技術(shù)參數(shù):

ARL Quant’X 熒光能譜儀

應(yīng)對(duì)RoHS指令 ――快速分析

超大Si(Li) 晶體,具有*的痕量分析的靈敏度,打破lng的檢測(cè)限壁壘

全數(shù)字脈沖處理器技術(shù),死時(shí)間達(dá)60% 以及優(yōu)異的峰背比

高級(jí)FP無(wú)標(biāo)樣分析軟件,進(jìn)行無(wú)標(biāo)樣分析,減少對(duì)標(biāo)樣的依賴(lài)性

高靈敏電制冷Si(Li) 探測(cè)器技術(shù), 儀器免維護(hù)和*運(yùn)行

超大樣品室,可容納300mm*(乘號(hào))400mm的樣品

全自動(dòng)校準(zhǔn),自動(dòng)監(jiān)測(cè),自動(dòng)報(bào)警系統(tǒng),*計(jì)算機(jī)控制

鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù), 具有無(wú)標(biāo)樣分析測(cè)厚技術(shù)

二、主要特點(diǎn):

ARL Quant’X 熒光能譜儀

具有廣泛的應(yīng)用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析,各種合金及貴金屬成分分析,環(huán)境污染氣溶膠的測(cè)度,考古文物保護(hù),刑偵痕量分析,營(yíng)養(yǎng)品分析,磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體的薄膜渡層厚度分析,各種油品中成分分析,納米至微米鍍層厚度測(cè)量,土壤,催化劑,礦石,原材料等。

用于材料的無(wú)損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測(cè)器 從氟至鈾的多元素分析測(cè)定的濃度范圍一般可以從ppm級(jí)至* 技術(shù)參數(shù)

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