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RIGAKUT日本理學XHEMIS TX-3000V 內置 VPD 的 TXRF 光譜儀

時間:2025/4/23閱讀:165
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XHEMIS TX-3000V

內置 VPD 的 TXRF 光譜儀

超快速金屬污染分布驗證

VPD 的最高靈敏度

兼容最大 300 毫米的晶圓


XHEMIS TX-3000


XHEMIS TX-3000V 規格

技術全內反射 X 射線熒光光譜法 (TXRF) 與氣相分解 (VPD)
微量元素表面污染測量 niyoru 1E7
原子/cm2 檢測限 標測速度提高約
3 倍
科技集成自動 VPD 制備、三光束激發和自動光學元件更換
主要組件三探測器配置:
高功率 W 與陰極 X 射線源(9 kW 旋轉與陰極) 3
種激發能量,針對輕元素、過渡元素和重元素
進行了優化 XYθ 樣品臺
雙 FOUP 負載端口
特征全晶圓映射 (SWEEPING-TXRF) 零
邊緣排除 (ZEE-TXRF) 集成
自動 VPD 預處理 (VPD-TXRF)
用于硅晶圓的雙 FOUP 加載端口,可實現最高靈敏度
選擇背面分析 (BAC-TXRF)
GEM300 軟件,E84/OHT 支持
氣相處理 (VPT-TXRF),以提高靈敏度,同時保留空間信息 VPD
用于親水性晶圓表面(例如 SiC)
本體尺寸1280 (W) x 3750 (D) x 2040 (H)
(不包括顯示器和信號塔)
測量結果定量結果、光譜圖、彩色等值線圖、映射表



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