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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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貨物所在地:遼寧沈陽市

更新時(shí)間:2025-02-17 13:13:39

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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

 

產(chǎn)品型號(hào)

  VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

主要特點(diǎn)

  1、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)為配套直流電源用于導(dǎo)電類材料的濺     射鍍膜。

  2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

  3、體積小,操作簡(jiǎn)便。

技術(shù)參數(shù)

  1、電源電壓:220V   50Hz

  2、總功率:2KW

  3、極限真空度:< ?E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到?E-5mbar

  4、工作溫度:室溫-500℃,精度±1可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度

  5、靶槍數(shù)量:2個(gè)(可選配其他數(shù)量)

  6、靶槍冷卻方式:水冷

  7靶材尺寸:Φ2”,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

  8、直流濺射功率:500W可選

  9、射頻濺射功率:300W/500W(可選

  10、載樣臺(tái):Φ140mm

  11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1-20rpm內(nèi)可調(diào)

  12、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體

  13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,每個(gè)流量為100SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

  主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

  直流電源控制系統(tǒng)

1

2

  射頻電源控制系統(tǒng)

1

3

  膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)

1

4

  分子泵德國(guó)進(jìn)口

1臺(tái)

5

  冷水機(jī)

1臺(tái)

6

  冷卻水管(Φ6mm

4

7

  靶材(不銹鋼靶、陶瓷靶)

1

可選配件

  金、銦、銀、白金等各種靶材

 

 

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