您好, 歡迎來到化工儀器網
TMC光學平臺廣泛應用于光學檢測等領域
閱讀：997 發布時間：2021-8-9
TMC光學平臺廣泛應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中，其動態力學特性的好壞直接影響實驗結果的準確性和可靠性。儀器設備的微振動直接影響精密儀器設備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學平臺的振動隔離技術。
TMC光學平臺的特點：
·專門設計有水平減振機構，隔振基礎采用二層氣囊，在各個方向上都能提供優異的減振性能；
·自動充氣，全部氣動執行部件均采用*；
·調節穩定、結構可靠、噪聲低；
·適用于振動頻率要求高的場合；
TMC光學平臺不僅需要高精度的機器設備來加工，更需要有高精度檢測手段與檢測儀器來保證，也只有的光學平臺才能保證高精度的科學實驗、研究的正常進行。外觀應美觀，各部位都應無影響安全的銳角及銳邊，更重要的是檢查孔口倒角是否均勻一致（螺孔旋入后應垂直平臺面），四邊及其倒角是否平直一致。如果臺面未經過機械加工而是人工打磨出來的孔口倒角是大小不一致的，沿臺面四周邊用目測即可看出臺面倒角處是彎曲的。
1.試驗目的：檢測氣墊隔振垂直方向和水平固有頻率、振幅、振動速度、振動效果。
2.試驗方式：采用三點均布試驗。
3.試驗設備和試件：氣墊隔振器三只、質量載體一件。
4.測試儀器振動分析；位移傳感器2只；電腦；采集分析軟件。
5.試驗：采用多點敲擊法瀾可得固有頻率，振幅，振動速度，振動效果。