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目錄:深圳摩方新材科技有限公司>>3D打印系統>>2μm精度>> nanoArch S1302μm精度微納3D打印系統

2μm精度微納3D打印系統
  • 2μm精度微納3D打印系統
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參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 摩方精密
  • 型號 nanoArch S130
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 深圳市
屬性

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更新時間:2024-09-18 18:05:13瀏覽次數:3635評價

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應用領域 醫療衛生,食品/農產品,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥 光學精度 2μm
打印材料 光敏樹脂 打印層厚 5-20μm
最大打印尺寸 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) 光源 UV?LED(405nm)
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

一、產品介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統,將需打印模型分層投影至樹脂液面,快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢,被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。



二、基本參數

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度:2μm

打印層厚:5-20μm

打印尺寸:

①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復陣列模式)

文件格式:STL

系統外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量:550kg

電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW


三、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域


四、企業簡介

摩方精密(BMF,Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技術及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發,提供制造復雜三維微納結構技術解決方案,同時,可結合不同材料及工藝,實現終端產品高效、低成本批量化生成及銷售。


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