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目錄:鄭州科探儀器設備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> 小型新款磁控濺射儀

小型新款磁控濺射儀
  • 小型新款磁控濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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  • 品牌 鄭科探
  • 型號
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2024-03-27 15:05:08瀏覽次數:2596評價

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產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 電子/電池
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。



針對市場上其它型號我們做如下改進

1 腔體擴充口可增加擴展口  大可擴展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器

2 樣品可旋轉 大轉速20轉每分鐘 使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉機械手柄 樣品高度可精細調節 樣品距離靶材距離可到1mm

4 電動擋板 使用人機界面程序控制打開或者關閉時間

5 可通過人機界面手動或者使用編程自動控制預濺射(洗靶) 恒定功率輸出  變換功率輸出 定時打開擋板(時間單位 秒)關閉擋板 樣品轉速  工藝可存儲  工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作

7 此產品已申請多項技術 抄襲請慎重?。?!

小型新款磁控濺射儀技術參數:

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

大功率

≤1000W

大輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

極限真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



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