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深圳市秋山貿易有限公司

主營產品: 抹茶生產線,粉碎研磨珠,口紅硬度計

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公司信息

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林經理
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13823147203
址:
深圳市龍崗區龍崗街道新生社區新旺路和健云谷2棟B座1002
編:
化:
www.cnakiyama.com
址:
鋪:
http://www.fzbnjj.com/st352988/
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日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃
日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃
參考價 10000
訂貨量 1000
具體成交價以合同協議為準
  • 型號
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 深圳市

更新時間:2024-09-19 15:14:15瀏覽次數:1423

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
類型 其他 應用領域 化工,文體,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬
日本thermocera高溫階段“基板加熱"1800℃
加熱,板上/下板,板旋轉,RF / DC板偏置
可以根據設備配置自由定制,Depo-Up和Down,定制板支架,板旋轉/上/下/上/下,傾斜加熱和反向濺射等各種功能都包含在該單元中。
各種加熱絲:NiCr,石墨,CCC,Inconel,鎢,鉬,SiC / PBN / PG涂層,鹵素燈和其他10種類型

日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃

 

加熱,板上/下板,板旋轉,RF / DC板偏置

可以根據設備配置自由定制,Depo-Up和Down,定制板支架,板旋轉/上/下/上/下,傾斜加熱和反向濺射等各種功能都包含在該單元中。
各種加熱絲:NiCr,石墨,CCC,Inconel,鎢,鉬,SiC / PBN / PG涂層,鹵素燈和其他10種類型

總覽

基板加熱階段需要加熱階段,例如垂直提升機構(基板支架和加熱頭中的一個或兩個),基板旋轉,RF / DC基板偏壓(反向飛濺RF / DC清潔)和加熱部分傾斜。它是具有多種功能的“多合一”組件。我們可以滿足對半導體制造設備和各種真空設備(氣相沉積設備,濺射,CVD設備)的所有要求。

 
   
       
 

 

基板加熱加熱器,晶片加熱,加熱臺,晶片退火2寸熱舞臺_800C

 

   

 

基板加熱加熱器,晶片加熱,加熱臺,晶片退火晶圓托盤_提起

 

 
       
   
 

應用/用例

?半導體制造,薄膜的實驗設備,RF / DC反濺射,PECVD,RIE等
?用熱臺(800℃說明書→修飾以醉高1600℃)更換現有設備的加熱機構
?新工藝評價機器,樣機,等

 
   
 

加熱部位規格

?NiCr加熱器
?Inconel加熱器
?鎢加熱器
?鉬加熱器
?鹵素燈加熱器
?石墨加熱器
?C / C復合加熱器
?各種涂層加熱器(PG,PBN,SiC涂層,玻璃碳)

*工作溫度和數據均為“陶瓷頂”?請參閱“加熱器”。

 
   
   
 

各部分名稱


熱舞臺結構

 日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃



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