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低溫砷化鎵基片外延生長(zhǎng)定制
  • 低溫砷化鎵基片外延生長(zhǎng)定制
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更新時(shí)間:2025-04-27 21:00:08

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低溫砷化鎵基片外延生長(zhǎng)定制基底上生長(zhǎng)高質(zhì)量AlAs、GaAs、InAs、AlGaAs、AlInAs和InGaAs材料外延薄膜層,適用于不同應(yīng)用。

LT-GaAs低溫砷化鎵基片外延生長(zhǎng)定制

     GaAs砷化鎵是Ⅲ-Ⅴ族元素化合物,黑灰色固體,熔點(diǎn)1238℃。它在600℃以下能在空氣中穩(wěn)定存在,并且不為非氧化性的酸侵蝕。砷化鎵可作半導(dǎo)體材料,其電子遷移率高、介電常數(shù)小,能引入深能級(jí)雜質(zhì)、電子有效質(zhì)量小,能帶結(jié)構(gòu)特殊,可作外延片。

1、半導(dǎo)體光電子器件結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)

     我們可在GaAs砷化鎵基底上生長(zhǎng)高質(zhì)量AlAs、GaAs、InAs、AlGaAs、AlInAs和InGaAs材料外延薄膜層,適用于不同應(yīng)用。

2、低溫砷化鎵

     對(duì)于某些應(yīng)用需要快速響應(yīng)裝置,例如光學(xué)探測(cè)器、可飽和吸收器 或光電導(dǎo)天線。我們提供低溫外延生長(zhǎng)器件,響應(yīng)時(shí)間短至1  ps。

     我們可提供以下在GaAs襯底上生長(zhǎng)的一個(gè)或兩個(gè)單層的低溫砷化鎵。

低溫砷化鎵基片外延生長(zhǎng)定制參數(shù)如下:

  • 砷化鎵晶片直徑:2" 或4"

  • 最大薄膜疊層厚度:5 μm

規(guī)格:

  • LT-GaAs-50.8:2"(50.8 mm)LT-GaAs晶片

  • LT-GaAs-100:4"(100 mm)LT-GaAs晶片

  • LT-InGaAs-100:4"(100  mm)LT-InGaAs晶圓片

  • LT-GaA-100-C:具有定制金屬結(jié)構(gòu)的4"(100  mm)LT-GaAs晶圓片

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