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具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點描述的各種軟件工具，可選附件便于協調脈沖激光器和單脈沖的測量。

 

機械部分采用特殊表面細化、光學部分采用光學增透膜把雜散光減小到zui小的優化探測頭。

 

VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀

 

基于激光光束分析儀的“光束檢測”的CCD相機，被優化適合于低輸出功率的連續和脈沖激光器準直光束分析，大部分VIS/NIR波長范圍的激光，可用此系統典型分析，例如Nd:YAG或者半導體激光器通常使用此系統分析。

 

光束質量分析儀包含Beamlux II軟件、標準攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測量的設備，使用這些可選配件，系統也可用于高功率激光束和焦點直徑小于10µm的測量。

 

產品應用：測量光斑大小、發散角、近場、遠場、光束指向穩定性、功率、焦散、均勻性

 

光束質量分析儀的使用

 

目的：

 

1、學會使用光束質量分析儀 BeamScope-P7探頭測量激光光束M2

 

2、學會使用激光質量分析儀WinCamD 探頭觀察和測量激光光斑。

 

原理：

 

2M 是一個描述激光光束的不完善程度的無量綱參數。2M 值越小（即光束越接近衍射極限的00TEM 的理想光束），光束就越能夠緊聚焦成一個小光斑。

 

沒有激光光束是完全理想的。由于光學諧振腔、激光介質和輸出/輔助光學元件的影響，大多數光束都不是書本上介紹的“理想的”、衍射極限的、高斯截面的單一的00TEM 模式。復雜的光束可能包含多個xy TEM 模式的貢獻，導致了較大的2M 因子，即使是較好的實驗室用的He-Ne 激光也有1.1到1.2左右的值，而不是具有理想的00TEM 模式下的1.0的2M 值。

 

簡單的說2M 可以定義為：實際的光束與具有相同束腰大小的、理論上的衍射極限的光束的發散程度之比為：測量2M 因子的前提條件是得到或形成一個可以測量的光束束腰。