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產品簡介
詳細介紹
由于濺射原子的高能量，離子束濺射薄膜的密度和所使用的體材料的密度非常相似。 在每次的工藝過程之間，這個密度具有*的重復性。 請注意有可能沉積許多具有非晶態或者半晶態的材料。 對于光學鍍膜來說，這通常是非常有利的，因為它降低了雙折射的影響。
光學鍍膜的一個主要特點是它的表面質量。 表面質量決定了光學器件本身的性能。 高品質的光學鍍膜起始于光滑的超級拋光的光學基板，其均方根粗糙度是0.05納米。常規鍍膜會在增加光學基板表面的粗糙度，粗糙度取決于所使用的技術。 例如，蒸發技術沉積的薄膜表面均方根粗糙度典型值是1納米，而離子輔助沉積技術獲得的表面均方根粗糙度典型值是0.4納米。 離子束濺射沉積的薄膜表面均方根粗糙度和超級拋光的基板相當， 為0.05納米。
高品質的光學鍍膜應具有低的光損耗。 光學鍍膜內的損耗來自散射和吸收。 離子束濺射產生的薄膜具有很低的總損耗，以至于需要精密的儀器來測量它們。已經有兩個獨立的研究組公布其測量的鏡子的損耗小于百萬分之二。 這兩個小組都使用牛津儀器離子束濺射沉積系統來制作鏡子。
- Laser Bar Facet
- 高品質鏡面
- 雙波長增透膜
- 注釋
激光棒鏡面鍍膜
| 激光器的諧振腔是由一些鏡面所構成的。激光束會從率的一個鏡面穿透發射出來，因此必須在一端對光束進行限制，而另一端使光束zui低損耗地出射。 這可通過在反射面增加一層增反膜（HR），在出射面增加一層增透膜（AR）實現。 |  |
| 由于激光棒諧振腔各個面鍍膜的情況不同，因此激光棒必須安裝在一個可靠的裝置上，首先對一個面進行沉積鍍膜，然后把激光棒翻轉，對另外一個面進行沉積鍍膜，同時要保證之前那個面不會被污染。 |  |
| 離子束濺射沉積
|  |
| 通過時間控制器或晶體振蕩器在40毫秒內關閉進行工藝控制 • Al2O3 大于 20 nm/ min • Si 大于 20 nm/ min • SiO2 大于 20 nm/ min • Ta2O5 大于 25 nm/ min 均勻性優于 +/- 2 % | 典型的離子束濺射裝置布局圖 對于激光棒的鍍膜，我們使用直接沉積的方法： - 這樣側壁的沉積量zui少 -得到均勻的沉積面厚度和輪廓 |
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