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該儀器適用于多種介質，半導體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。界面友好，操作簡便，用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。
產品簡介
詳細介紹
薄膜測厚儀
薄膜測厚儀
儀器介紹：
B7-10-SGC-10，適用于介質，半導體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜，用軟件來擬合運算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n，消光系數k。該設備關鍵部件均為國外進口，也可根據客戶需要*。
強大的軟件功能：
界面友好，操作簡便，用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數據數據處理功能強大，可同時測量多達四層的薄膜的反射率數據。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學常數等數據。材料庫中包含了大量常規的材的光學常數數據。用戶可以非常方便地自行擴充材料數據庫。
產品功能適用性：
該儀器適用于多種介質，半導體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。
典型的薄膜材料為：
SiO2、CaF2、MgF2、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。
典型的基底材料為：
SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
儀器具有開放性設計，儀器的光纖探頭可很方便地取出，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測量儀適用于微區（>10μm，與顯微鏡放大率有關）薄膜厚度的測量。
技術指標：
名稱 | 參數 |
厚度范圍 | 20nm-50um（只測膜厚）， 100nm-10um（同時測量膜厚和光學常數n，k） 根據薄膜材料的種類，其范圍有所不同。 |
準確性 | <1nm或<0.5% |
重復性 | 0.1nm |
波長范圍 | 380nm-1000nm |
可測層數 | 1-4層 |
樣品尺寸 | 樣品鍍膜區直徑>1.2mm |
測量速度 | 5s-60s |
光斑直徑 | 1.2mm-10mm可調 |
樣品臺 | 290mm*160mm |
光源 | 長壽命溴鎢燈（2000h） |
光纖 | 純石英寬光譜光纖 |
探測器 | 進口光纖光譜儀 |
電源 | AC100V-240V，50HZ-60HZ |
重量 | 18kg |
尺寸 | 300mm*300mm*350mm |
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