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新型離子和電子雙束系統為材料研究提供了的納米分析能力。
日立公司久負盛名的高可靠性和高性能設計在新型雙束系統（超高精密聚焦離子束FIB和高分辨場發射電鏡FE-SEM）中得到了*體現，它具有高效率的樣品制備能力、高精度納米微加工能力和高分辨圖像觀測能力。新的低損傷加工技術可以很好的滿足感光材料和電子束曝光應用的需求；而新開發的微樣品取樣、樣品裝載和樣品導航功能則進一步提高了分析效果*1。
特點：
超高精密聚焦離子束FIB
低銫FIB*2系統保證了不小于50nA的束流強度（40KV），和1µm的束斑尺寸。
保證了大面積的拋光、硬質材料的微加工和高效率的樣品制備。
新開發的微樣品取樣技術*2
日立公司技術微樣品取樣技術保證了探針的平滑移動，同時新開發的通過探針生成的吸收電流圖象技 術用來避免錯誤發生。
高分辨掃描電鏡
日立公司技術的的電鏡鏡筒和探頭*2保證了無論FIB是否工作均可以觀測到高分辨點睛圖像。
高精度的終點探測技術
SEM的高分辨圖像保證了高精度的終點探測，利用實時的FIB圖像實現的Section-View功能可以顯示截面的輪廓圖，在電子感光材料樣品制備中有函大價值。
樣品桿可適應TEM/STEM*1*2
側插式樣品桿可以適用于其它設備（日立公司NB5000和TEM/STEM）
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