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【產品簡介】
二氧化硅在溶解礦物質的天然水體中存在。但在工業應用中卻不希望有二氧化硅的存在，因為二氧化硅會引起結垢現象。
特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。
加熱系統和反滲透工廠也有必要監測二氧化硅。
【詳細說明】
哈納HI96770 微電腦二氧化硅（HR）濃度測定儀
二氧化硅在溶解礦物質的天然水體中存在。但在工業應用中卻不希望有二氧化硅的存在，因為二氧化硅會引起結垢現象。
特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。
加熱系統和反滲透工廠也有必要監測二氧化硅。
性能特點
? 優良的光學系統設計，人性化確認操作，保證儀器的良好校準；
? 雙行易讀LCD顯示屏，人性化顯示界面，操作簡單、快捷；
? 倒計時功能，試劑與樣品反應時間*性，確保測量精確度；
? 操作簡單，定期內置標準曲線標定功能，確保儀器性能*；
? 出廠前內置標準曲線標定，具有CAL CHECK 性能核查功能，
? GLP功能，隨時更新、查閱標定數據、日期、標準等信息；
? 高精度測量結果，光源防塵測量系統，自動關機節電模式
? 優良防水性能，適用于實驗室和現場快速樣品分析測量。
CAL CHECKTM 性能核查功能
儀器在使用一段時間后，儀器光學系統將會衰減，造成內部設置的標準曲線會出現漂移，影響測量數據可靠性和準確性。
*CAL CHECKTM性能核查功能，二氧化硅NIST測量曲線標定組可定期（頻繁使用，1-3個月標定一次，常規情況下，半年標定一次）儀器內部曲線進行標定和校正，修訂內部標準曲線漂移，確保測量數據正確可靠。
二氧化硅NIST測量曲線標定組，保存和使用應在18 to 25°C（64.5 to 77°F）溫度范圍內，非Hanna 品牌二氧化硅NIST測量曲線標定組會造成內置標準曲線嚴重漂移，甚至會損壞儀器。
哈納HI96770 微電腦二氧化硅（HR）濃度測定儀 技術參數
測量范圍：0 to 200 mg/ L（ppm）SiO2
解 析 度：1 mg/ L（ppm）
測量精度：讀數±5% ±1 mg/L @ 25°C
測量方法：參照USEPA METHOD 370.1（適用于飲用水，海水，市政和工業廢水）和Standard Method 4500-SiO2 C標準方法
光學系統：定制接收器暨光源系統
電源模式：1 x 9V 電池，在測量模式下，10分鐘不用后自動關機
使用環境：0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，無冷凝
尺寸重量：主機尺寸：192 x 104 x 69 mm，主機重量：360g
哈納HI96770 微電腦二氧化硅（HR）濃度測定儀 標配&配件
HI96770
主機，HI96770-01 二氧化硅試劑，HI731333 定制玻璃比色皿（2個），HI731318 玻璃比色皿清潔布（2塊），中英文使用說明書，HI721006 定制儀器攜帶箱
HI96770C
主機，HI96770-01 二氧化硅試劑，HI96770-11 二氧化硅NIST測量曲線標定組，HI731333 定制玻璃比色皿（2個），HI731318 玻璃比色皿清潔布（2塊），中英文使用說明書，HI721018定制儀器攜帶箱