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[供應]VTC-16-SM-2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

貨物所在地：上海上海市

更新時間：2025-01-01 21:00:08

有效期：2025年1月1日 -- 2025年7月1日

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VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜

技術參數

   輸入電壓

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

   輸入功率

< 2000W 

   輸出功率

  • 電壓：1600VDC
  • 大電流：150mA 

   腔體

石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height


   濺射頭和樣品臺

  • 2英寸帶水冷磁控濺射頭
  • 一個直徑50mm不銹鋼樣品臺，樣品臺可旋轉，旋轉速率0 - 5 RPM 

  • 配有一手動操作的擋板，包含靶頭支撐架

  • 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍：60-100mm

         （點擊圖片查看詳細資料）

   控制面板

6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度


   附件（可選）

  • 雙極旋片真空泵VRD-8，KF25接口

  • KF25不銹鋼波紋管

  • 10L/min 循環水冷機冷卻磁控靶頭  
      

   氣氛

含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥


   靶材

  • 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
  • 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬，可選購

   可選配件

  • 膜厚監測儀
  • 分子泵，可獲得高真空， >10E-5 torr
  • 為獲得好的薄膜強度，建議鍍膜前用等離子清洗機對基片進行清洗。
  • 500度樣品加熱臺         
        

 

   體積

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

   凈重

20 kg ( not included pump )

   質保和證書

  • 一年質保，終生維護
  • CE認證

   磁控濺射鍍膜知識

與客戶分享新的磁控濺射鍍膜技術，請點擊文章鏈接- Plasma Sputter Coating.  

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