小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
技術參數
主要特點 | - 采用氣體作為清洗介質，避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。
- 可短時間內*清洗掉有機污染物。
- 清洗程度可達到分子級。
- 可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
- 清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。
- 樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。
- 廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。
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參數 | - 電壓：AC220V 10A
- 消耗功率：<500W（包括真空泵）
- RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz
- 腔體：Φ190mm×98mm
 - 石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
- 內腔：Φ165mm×55mm
- 清洗電極：Φ120mm
- 樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
- 樣品臺與電極間距：15mm-50mm可調
- 抽氣管：Φ12mm
- 極限真空度：0.1Pa
- 工作真空度：60Pa-500Pa
- 氣路數量：2路（選裝）
- 流量控制器數量：1、2
- 流量顯示儀：2通道
- 氣路接口：Φ6mm
- 加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
- 冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
- 工作環境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對濕度）不結露，海拔高度0-2000m
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產品規格 | - 尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
- 重量：20kg（不含真空泵）
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可選配置 | - 加熱樣品臺
- 流量控制器（量程10、50、100，多可增加2個通道）
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