高真空蒸發鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。在實驗室制備金屬膜、有機膜等方面有著廣泛的應用。要想保證高真空蒸發鍍膜儀的正常運行，就必須保證高真空蒸發鍍膜儀沒有漏氣現象。現在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發鍍膜儀是否漏氣的方法。

　　查看漏氣狀況是確保高真空蒸發鍍膜儀真空度的一項查看辦法，簡稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是*的。通常高真空蒸發鍍膜儀真空室內漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細縫中發生，當抽氣體系抽氣后使真空室內壓強降低，外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內，形成真空度降低。在檢漏的過程中，需求留意一些問題，才能把檢漏作業做好。

　　1.要搞清楚漏氣究竟的虛漏仍是實漏，因為工件資料加熱后都會在不一樣程度上發生氣體，有可能誤以為是從外部流進的氣體，這就是虛漏，要掃除這種狀況；

　　2.測驗好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求；

　　3.查看漏孔的巨細，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可解決計劃并實施；

　　4.斷定.檢查儀器的zui小可檢漏率和檢漏靈敏性，以zui大規模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進步檢漏的準確性；

　　5.把握檢.漏儀器的反應時刻和消除時刻，把時刻把握好，確保檢漏儀器作業到位，時刻少了，檢漏作用肯定差，時刻長了，浪費檢漏氣體和人工電費；

　　6.還要防止漏孔阻塞，有時因為操作失誤，檢漏過程中，一些塵埃或液體等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒有漏孔，但當這些阻塞物因為內外壓強區別進步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。為高真空蒸發鍍膜儀做好檢漏作業是很重要的，形成真空度降低的緣由多種多樣，我們要逐個的解決這些緣由，穩定鍍膜的作用。