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首頁>>北京瑞科中儀科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>沉積系統(tǒng)

  • PECVD等離子沉積設備 參考價：面議

    PECVD等離子沉積設備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備，它結合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計和直接載...
    型號： DEPOLAB 2... 廠商性質：經(jīng)銷商所在地：北京市 對比
    等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
    2024/7/10 7:33:35700

  • 帶預真空室的化學氣相沉積設備 參考價：面議

    帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣...
    型號： SI 500 PP... 廠商性質：經(jīng)銷商所在地：北京市 對比
    等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
    2024/7/10 7:31:50643

  • 等離子沉積設備 參考價：面議

    等離子沉積設備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100°C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。
    型號： SI 500 D 廠商性質：經(jīng)銷商所在地：北京市 對比
    等離子沉積設備等離子沉積設備沉積等離子
    2024/7/10 7:29:56577
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