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超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
該系統(tǒng)由全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
目前該系統(tǒng)的超高真空條件沉積模式（僅用機械泵+分子泵，極限真空可達5X10E-10Torr）。多種組合沉積模式，同一腔體實現(xiàn)多種功能沉積方式，沉積源模式有:
磁控濺射源
電子束蒸發(fā)源
熱蒸發(fā)源
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
該系統(tǒng)高度靈活，軟件操作方便，專業(yè)為研究機構(gòu)沉積超純度薄膜，是真正的超高真空沉積系統(tǒng)。
超高真空多腔室物理氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
極限真空:<5x 10E-10 torr(經(jīng)過24小時烘烤冷卻后)；
鍍膜均勻度：<3%
樣品傳送: 便捷安放上置襯底
機柜: 占用空間小結(jié)構(gòu)；
樣品臺工作: 旋轉(zhuǎn), 加熱, 加載偏壓；
樣品操作: 預(yù)抽真空室；
樣品尺寸: 1"、 2"、 3"、 4" 、8"、12"等；
膜厚監(jiān)控: 石英晶體微天平, 橢偏儀；
烘烤: 內(nèi)置加熱或外置保溫加熱；
簡單方便 的全自動軟件操作：全自動抽取真空并且程序自動運行。
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