| 應用領域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
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磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件
技術參數：
我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內長度范圍：150-400mm
真空腔體內端面直徑：60-96
靶材直徑： 1", 2" and 3"
靶材最大厚度：4-6mm
冷卻：水冷
磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）
特點：
100%超高真空（UHV）應用
放射性沉積模式
在線Z軸驅動及傾斜
水冷時不會存在水汽
平衡靶和非平衡靶設計
高強度磁體應用于磁性材料
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件
應用領域：
PVD沉積
金屬涂層
納米結構薄膜
多層鍍層
反應濺射
射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射
硬質涂層
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