7
當前位置：賽默飛測量控制與材料鑒別>>技術(shù)文章>>X射線光電子能譜技術(shù)的用途主要體現(xiàn)在哪些方面？
X射線光電子能譜技術(shù)的用途主要體現(xiàn)在哪些方面？
X射線光電子能譜 (XPS)，也被稱為化學分析電子能譜 (ESCA)，是分析材料表面化學性質(zhì)的一項技術(shù)。具有靈敏度高、分辨率高、元素分析全（除H和He）、為非破壞性分析、深度剖析、小于10 nm薄膜分析（角分辨）、元素化學態(tài)分布（XPS成像技術(shù)）等特點。
1、可定性分析，根據(jù)所測得譜的位置和形狀來得到有關(guān)樣品的組分、化學態(tài)、表面吸附、表面價電子結(jié)構(gòu)、原子和分子的化學結(jié)構(gòu)、化學鍵合情況等信息。
2、可定量分析，以能譜中各峰強度的比值為基礎(chǔ)進行分析，把所測到的信號強度轉(zhuǎn)變成元素的含量，即將譜峰面積轉(zhuǎn)變成相應(yīng)元素的含量。
3、可深度剖析，由于樣品本身的層狀結(jié)構(gòu)如氧化、鈍化等原因?qū)е聵悠吩谏疃确较蛏匣瘜W狀態(tài)的不同。通過利用氬離子槍對樣品表面進行氬離子濺射剝離，控制合適的濺射強度及濺射時間，將樣品表面刻蝕一定深度，然后進行取譜分析。
4、可角分辨電子能譜分析，改變樣品表面與入射光束間的角度，即可改變?nèi)肷涔獾臋z測深度，使得檢測深度變淺，這樣來自最表層的光電子信號相對較深層的會大大增強。利用這一特性，可以對超薄樣品膜表面的化學信息進行有效地檢測，從而研究超薄樣品化學成分的縱向分布。
X射線光電子能譜用途：