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QUANTUM量子科學儀器貿易(北京)有限公司

美國Thermal Technology自動熱處理爐

參   考   價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號:APF 0925-MM

品       牌:其他品牌

廠商性質:生產商

所  在  地:北京市

更新時間:2025-04-10 20:26:30瀏覽次數:1974

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產地類別 進口 價格區間 面議
儀器種類 真空爐 應用領域 化工,石油,鋼鐵/金屬,航空航天,電氣
美國Thermal Technology自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐,全自動、無人值守操作,Z高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率>100℃/min,降溫速率可達300℃/min

自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐

 

美國Thermal Technology自動熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實現全自動、無人值守操作,可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率>100℃/min,降溫速率可達300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選。可在爐頂與爐底裝備加熱器,整個熱區的溫度均勻性*。

 

美國Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對高純度的進陶瓷材料進行熱處理,避免了其對傳統石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。 

 

系統組成:真空腔,金屬熱區,電源,真空泵,可編程控制系統;可定制升。 

系統的熱區可在多種環境內工作:濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮氣、真空等。加熱體根據不同的工作溫度使用鉬片、鉬網、鎢網等,表面積大,可提高工作區的溫度均勻性。多種產量、溫度、處理能力可選,滿足您的多種需求。

 

APF與CPF系列產品點

 

* 好的溫度均勻性

* 快速的循環時間

* 編程與控制

* 處理進程序列控制

* 易于裝料

* 自動處理

* 性能穩定

* 可同時作為高溫真空爐

* 溫度高達2500°C

* 快速的熱響應

* 露點檢測與控制

* 濕/干 氫氣氛 

* 對參數變化的快速響應

* 多種尺寸、產能可選

* 可供燒金屬化陶瓷

* 控制氣氛防護

 

加熱體

輻射屏蔽

溫度可達

常規溫度

鎢&鉬

2500°C

2200°C

鉬&不銹鋼

1700°C

1600°C

 

設備型號

APF 0925-MM

APF 2036-WW

CPF 121212W-WW

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APF 0716-MS

 

立式真空爐

THERMAL TECHNOLOGY全自動立式真空爐采用圓柱形加熱體,在低功率下可以控制形成均的溫度,因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節省能量的同時也可以保護工作環境、加快熱循環速度。熱區設計有助于延長在高工作溫度下的壽命。

立式的APF/CPF爐具采用冷壁設計,具有輻射防護。頂部/底部裝卸與鐘罩升降等批量處理爐可選。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔由液壓驅動升離底盤與爐床,便于裝卸工件與設備。采用新的微處理器控制系統,可實現數字化溫度控制與處理序列,每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便,并可以在操作過程中進行實時修改。

裝完工件,設置程序處理序列后,所有操作*自動,操作完成后系統會發出信號提示。

 

型號

工作區尺寸

工作區容量

處理量

APF-0716

Ф 6” x 12“

0.2 立方英尺

40 磅

APF-0925

Ф 8” x 16”

0.5 立方英尺

75 磅

APF-1230

Ф 10” x 20”

0.9 立方英尺

150 磅

APF-1836

Ф 15”x 28”

3.1 立方英尺

500 磅

APF-2444

Ф 20”x 36”

6.5 立方英尺

1000 磅

APF-3060

Ф 24”x 48”

12.6 立方英尺

1500 磅

APF-4060-MS

Ф 36" x 48"

17.2 立方英尺

1500 磅

CPF-0716-MS

Ф 4”x 10”

0.1 立方英尺

40 磅

CPF-0925-MS

Ф 5.5”x 14”

0.2 立方英尺

75 磅

CPF-1230-MS

Ф 8.5”x 16”

0.5 立方英尺

150 磅

CPF-1836-MS

Ф 12.5”x 20”

1.4 立方英尺

500 磅

CPF-2444-MS

Ф 17.5”x 24”

3.3 立方英尺

1000 磅

CPF-3060-MS

Ф 21.0”x 36”

7.2 立方英尺

1500 磅

Top

5Фx 10

0.1

612

Top

10Фx 14

0.6

1218

Bottom

13Фx 18

1.4

1624

 

臥式真空爐

臥式真空爐采用網狀加熱體,低功率下可以控制形成均的溫度,因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節省能量的同時也可以保護工作環境、加快熱循環速度。熱區設計有助于延長在高工作溫度下的壽命。臥式真空爐多可配備6個立熱區,可實現好的溫度均勻性。

臥式的APF/CPF爐具采用冷壁設計,具有輻射防護,均為前部裝卸的批量處理爐。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔前部留有裝料口。采用新的微處理器控制系統,可實現數字化溫度控制與處理序列,每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便,并可以在操作過程中進行實時修改。

裝完工件,設置程序處理序列后,所有操作*自動,操作完成后系統會發出信號提示。

 

裝料方式

工作區尺寸 (英寸)

工作區容量(立方英尺)

型號

前部

12 x 12 x 12

1.0

121212

前部

12 x 12 x 24

2.0

121224

前部

16 x 16 x 32

4.8

161632

前部

16 x 16 x 48

7.0

161648

 

發表文章

Ti Reactive Sintering of Electrically Conductive Al2O3–TiN Composite: Influence of Ti Particle Size and Morphology on Electrical and Mechanical Properties, Materials 2017, 10, 1348.

    

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