三維表面形貌儀 采用了上等光學系統,可通過非破壞觀察法生產高畫質的圖像并進行**的3D測量,可以滿足不同樣品的觀測需求

三維表面測量儀輪廓儀臺階儀(納米級)NanoFocus2000是用于表面結構測量和表面形貌分析的一款檢測設備

采用垂直掃描白光干涉和移相干涉技術，實現對樣品表面粗糙度、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征的納米級三維精密測量。廣泛應用于半導體工藝、航空航天、太陽能電池工藝、材料表面工程、MEMS、超精密加工等領域。

三維表面測量儀輪廓儀臺階儀(納米級)NanoFocus2000產品特點：

測量精度重復性達到世界較高水平

關鍵硬件采用美國、德國、日本等

配備進口第三方校準標準件

高性價比微觀形貌測量設備

迅捷、高效的上等售后服務

覆蓋范圍廣

兼容多種測量和觀察需求

保護性

非接觸式光學干涉測量

可操作性

“一鍵式”操作更簡單、高效

智能化

特殊形狀智能計算特征參數

個性化

定制化測試報告

NanoFocus2000三維表面微觀形貌檢測儀主要由精密載物臺、照明系統、光學干涉成像系統、實現移相運動的微位移系統、圖像采集系統及圖像數據處理系統等組成。整個檢測儀放置在氣浮抗振平臺上。載物臺用于安放被測件，同時通過傾斜和XY二維平移調整使被測面**定位于感興趣的區域；光源及照明系統提供給被測面均勻又充分的反射式照明；干涉成像系統采用Mirau干涉物鏡結構獲取被測表面干涉圖像；采用壓電陶瓷傳感器（PZT）實現微位移控制；通過CCD與自主開發的軟件系統采集并處理干涉圖像，獲得被測面的相位信息進而得到表面輪廓。

三維表面測量儀/三維表面形貌儀NanoFocus2000(納米級) 主要指標：

?    CCD分辨率：像素1280x960

?    測試模式：PSI + VSI 檢測模式

?    縱向分辨率：＜0.1nm 

?    RMS重復性：＜0.01nm，1σ

?    臺階測量：準確度≤0.75％

?    臺階高重復性≤0.1％，1σ

?    高清晰無限遠成像系統，白光高效LED,光譜濾光

?    Nikon干涉物鏡配置2.5x，5x，10x，20x，50x

?    200mm手動樣品臺 （XY高精度）+ 傾斜±6°

三維表面測量儀/三維表面形貌儀NanoFocus2000(納米級) 分析及控制軟件：

?    三維分析處理迅速，結果實時更新

?    縮放、定位、平移、旋轉等三維圖像顯示

?    自主設定測量閾值，三維處理自動標注

?    測量模式可根據需求自由切換

?    可創建簡單工作流程，簡化重復工作

?    三維圖像支持高清打印

?    可進行軟件在線升級和遠程支持服務

外形尺寸：

? 外形臺式：氣動防震平臺

? 重量NanoFocus2000 ：130Kg

? 尺寸（高×寬×長）： 800×490×480 （mm）

環境要求：

? 溫度：24℃ ± 2℃

? 溫度變化率：<2.0℃/30 分鐘

? 濕度相對濕度：10%—70%，無凝結

? 防震需要隔離：1—120Hz 的震動

附件：

? 物鏡Nikon 干涉物鏡，20× (可選配2.5×，5×， 10×， 50×）

? 工作臺TMC 防震平臺（需要地面振動環境達到VC-D 級別，無空氣流動）

? 標準臺階塊臺階高標準塊(選配，100nm、1um、5um、10um、25um)