離子體灰化蝕刻系統 參考價：面議
等離子體灰化蝕刻系統e3600采用zuixin的光刻膠去除技術,為去除晶圓光刻膠提供高效方案?？梢栽诓桓淖冇布那闆r下同時處理不同尺寸的晶圓。
HBM模型測試儀 參考價：150000
HBM模型測試儀適合半導體器件、模塊和分立器件測試，適用于靜電放電敏感元件（ESD）特別是人體模型（HBM）。
矢量網絡分析儀校準器,VNA自動校準儀 參考價：面議
該矢量網絡分析儀校準器模塊通過USB或5.5 DC連接器通電，并通過USB或LAN與VNA進行通信，通過一個啟動按鈕，可通過VNA的四端口校準完成一個端口。
高級等離子體表面處理系統,表面活化增強 參考價：面議
高級等離子體表面處理系統NEBULA是為器件等離子體處理設計的大型等離子體處理機器,離子體表面處理系統NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化...
大型旋涂儀,光刻膠勻膠,甩膠 參考價：面議
大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。
全自動勻膠機,旋涂機,勻膠儀 參考價：面議
這款全自動勻膠機是進口自動勻膠儀器,采用功能強大的旋涂機系統專為所有應用的研究和可變工藝而設計。
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