WLD-C型光電直讀光譜儀是北京瑞利分析儀器公司(北京第二光學儀器廠)積30多年生產,用戶使用實踐,經不斷改進提高,提供給用戶的全新儀器.WLD-1C光電直讀光譜儀適合對有色金屬(如鋁,鋁合金,鎂合金,銅)多種基體的快速定量分析. WLD-3C光電直讀光譜儀適合對黑色(如高合金鋼,合金鑄鐵,鎳基)有色金屬(如鋁,銅及合金,鎂合金)多種基體的快速定量分析. 該型號儀器除具備系列老產品(750型)分析精密度高,性能穩定等優點外,特別對各類鑄鋁合金,更具有良好的分析效果. 儀器特點: 多通道檢測方式,分析速度快,樣品上機50秒鐘就可打出結果. 合理的結構,使機械性能穩定,24h光學系統漂移量小于10um. 密封的充氮氣紫外光學系統用于分析小于230nm波長的元素,也使儀器連續穩定工作近30天,不抽真空,降低了污染和電耗.(WLD-3C) 分段積分的測量方式,分析動態范圍寬. 用光導纖維傳遞信息,有效抑制了電磁干擾. 電極架水冷,使分析數據更加穩定. 應用軟件全漢字用戶界面,靈活的下的菜單,采用熱鍵(Hotkey)技術,使熟練的分析人員更加得心應手. 高能予燃低壓火花光源,性能穩定,故障率低. 可根據用戶的不同要求增加通道. 主要技術指標 1.激發光源:高能予燃低壓火花光源 電源電壓:50Hz、220V±1% 輸入功率:1.2KVA 電容量:1μF,2μF,3μF,7μF可選 電感量:50μH 輸出脈沖:峰值電壓960V 峰值電流:預燃300V,曝光100A 持續時間:預燃300μs,曝光100μs 引 燃:脈沖幅度:30KV 放電頻率:200 Hz 2.分光儀: 分析波段范圍:175~450nm(WLD-3C) 220~550nm(WLD-1C) 凹面光柵: 曲率半徑 750mm 刻劃密度:2400線/mm 刻劃面積:30×50mm2 閃耀波長(一級):300nm 線色散:0.55nm/mm 入射狹縫寬度:20μm 出射狹縫寬度:50μm、75μm 允許zui多通道:36個 分光儀局部恒溫:30℃±0.5℃ 3. 主要分析元素及測量范圍(未列元素協商解決) 元素 | 含量范圍% | 元素 | 含量范圍% | Fe | 基體 | Cr | 0.005-30.00 | P | 0.001-0.50 | Ni | 0.005-30.00 | S | 0.001-0.50 | Cu | 基體 | B | 0.001-0.50 | V | 0.002-3.00 | C | 0.001-4.00 | Cd | 0.001-0.50 | Mo | 0.01-5.00 | Sr | 0.001-0.50 | W | 0.01-20.00 | Nd | 0.001-0.50 | Si | 0.001-25.00 | Zn | 0.01-40.00 | Mn | 0.002-20.00 | Sb | 0.001-0.50 | Ti | 0.001-3.00 | As | 0.001-0.30 | Co | 0.01-15.00 | La | 0.001-0.50 | AL | 基體 | Ce | 0.001-0.50 | Mg | 基體 | Be | 0.001-0.50 | Pb | 0.001-10.0 | Ga | 0.001-0.50 | Zr | 0.001-3.00 | Pr | 0.001-0.50 | Nb | 0.001-3.00 | Sm | 0.001-0.50 | Bi | 0.001-0.50 | Sn | 0.001-10.00 | 測控儀系統 測量方式:分段積分 重現性:RSD≤0.2% 光電倍增管高壓電源: 電壓:-1000V 穩定度:8小時優于0.5% |