德國(guó)Hitec Zang高壓反應(yīng)器系統(tǒng)HiClave

HiClave™高壓工藝反應(yīng)裝置適合于高壓工藝反應(yīng)，特別是多相高壓反應(yīng)的系統(tǒng)。

它們可以作為單一的或者平行的反應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行操作。

HiClave™高壓反應(yīng)系統(tǒng)提供10-250 ml的反應(yīng)體積；

zui大耐受壓力300 bar，zui高溫度達(dá)300℃；

由于純金屬壓力帽密封，使系統(tǒng)達(dá)到密封狀態(tài)，可以精確地測(cè)量氣體的消耗；

zui多可以有7個(gè)介質(zhì)可以連接；

不同的加熱制冷系統(tǒng)；

磁力攪拌器或磁封的頂置式機(jī)械攪拌機(jī)；

不同形式的氣體/液體的供應(yīng)系統(tǒng)；

除了標(biāo)準(zhǔn)配置以外，您可以按照自己需求訂制系統(tǒng)

HiTec Zang高壓工藝反應(yīng)裝置適合以下應(yīng)用

?氫化反應(yīng) ?氧化反應(yīng) ?碳化反應(yīng) ?聚合反應(yīng)

10 ml and 20 ml 反應(yīng)器

10ml和20ml反應(yīng)器有一個(gè)帶有螺帽的釜蓋和一個(gè)十字連接。

十字的上部一般由內(nèi)部溫度控制器占用，兩個(gè)側(cè)臂一般連接介質(zhì)和壓力表。

反應(yīng)器可用加熱磁力攪拌器加熱，用攪拌子攪拌。

50 ml 反應(yīng)器

用加熱套筒加熱，并從頂部攪拌。

可以使用冷卻板進(jìn)行冷卻。

可使用加熱磁力攪拌器進(jìn)行加熱和攪拌。

由一個(gè)帶有螺帽的釜蓋和3個(gè)連接頭組成。

可以用于安裝磁力耦合的攪拌器、溫度控制器和連接介質(zhì)。

100-250 ml 反應(yīng)器

帶七個(gè)連接出口的法蘭蓋，其中三個(gè)在釜蓋的外側(cè)，方便操作。

中央出口由磁力耦合的攪拌電機(jī)使用。

反應(yīng)器用SS 1.4571不銹鋼（SS 316 Ti）或哈氏合金C4制造。

使用加熱套筒加熱，可以通過(guò)冷卻板或內(nèi)部冷卻回路冷卻。

利用頂置式攪拌器攪拌，zui大扭矩20或50 NCM。

Hydration 模塊

Vl-hiclave-hydr模塊自動(dòng)執(zhí)行包括惰性氣體清洗和反應(yīng)器泄漏測(cè)試在內(nèi)的整個(gè)程序。

將惰性氣體通入反應(yīng)器，達(dá)到一個(gè)zui高可調(diào)的壓力水平進(jìn)行充氣。

清洗周期可根據(jù)需要重復(fù)操作，zui后用惰性氣體進(jìn)行壓力測(cè)試。

測(cè)試時(shí)間和通過(guò)測(cè)試的尺度可自由選擇。

只有通過(guò)測(cè)試，反應(yīng)氣體才被釋放，用于清洗，達(dá)到設(shè)定壓力后，程序啟動(dòng)。

內(nèi)置的氣體消耗測(cè)量單元可以記錄動(dòng)力學(xué)數(shù)據(jù)，氣體消耗速度也可以用作中止反應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)

監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)被自動(dòng)記錄和呈現(xiàn)在報(bào)告中，氣體消耗曲線的動(dòng)力學(xué)分析和測(cè)量過(guò)程同時(shí)完成。

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