Genesis-II型+掃描電子顯微鏡EMCRAFTS）
- 公司名稱 北京馳奔儀器有限公司（EmCrafts-中國）-C
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2020/8/10 16:19:27
- 訪問次數 205
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| 價格區間 | 面議 | 儀器種類 | 熱場發射 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池 |
Genesis-II型+掃描電子顯微鏡EMCRAFTS）是EMCRAFTS第二代鎢燈絲掃描電子顯微鏡系列之中型分析電鏡。
Genesis-II型+掃描電子顯微鏡EMCRAFTS）是全數字化控制，專業級電子顯微成像分析儀器。
GenesisII型電鏡采用立方結構樣品室，拓展為中型樣品倉，具有更大的有效分析空間，全內置五軸優中心自動樣品臺，更大的自由行程，更好滿足電子顯微拓展分析需要。Genesis-II型+具有低真空環境電子顯微成像分析功能，非導電樣品可直接測試。
硬件特征：
全數字控制，專業級電子顯微成像分析能力 ；
主機電器一體化設計，占地小，便于移動 ；
中型樣品倉，接配專業EDS、WDS、EBSD、CL等，優化探測器幾何效率 ；
五軸優中心樣品臺，計算機導航馬達驅動；
高速渦輪分子泵真空系統，高真空成像時間小于3分鐘；
Se、 Bse雙探測器雙信號成像。
*精密五軸自動樣品臺
*優中心樣品臺
*多工位，更大，更多樣品裝載，更高效率工作
性能指標：
型號 | Genesis-510plus全自動掃描電鏡 |
樣品臺 | 五軸優中心，全自動 X:90mm | Y: 60mm | Z: 5-60mm | R:360°無限 | T:-20°~90° |
電子槍 | 預對中鎢燈絲 三極自動偏壓 |
加速電壓 | 200V-30KV |
探測器 | E-T型二次電子探測器 四分割半導體背散射電子探測器 |
物鏡光闌 | 20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌 |
分辨率 | 4nm @30KV ( SE Image) |
放大倍數 | 10-300,000 X |
樣品室 | Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口 |
樣品尺寸 | Max~Φ150mm X60mm |
工作距離 | 0-60mm |
掃描光柵運動 | 電位移 ±50μm， 電旋轉 0-360° |
掃描模式 | 聚焦模式：320X240 像素 ，尺寸可變 TV模式：800x 600像素 慢掃描模式，用于TV及聚焦模式。 照相模式：800X600、960X720、1024x768、1600x1200、3200x2400像素 |
圖像格式 | JPG、TIFF、bmp、PNG |
| 高級掃描模式 | 動態聚焦，傾斜補償，點、線掃描 |
| 真空模式 | 高真空優于9x10-3Pa |
| 低真空模式 | 10-230pa |
真空系統 | 全自動真空系統，真空高壓連鎖安全保護（高真空時間小于3分鐘） -渦輪分子泵 |
自動功能 | 亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和，物鏡光闌搖擺對中，自動連續照相，自動大圖拼接縫合 |
軟件系統 | 基于Win8，Virtuoso1.1控制軟件. 內嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。鼠標鍵盤操作。 |
主機尺寸/重量 | 600(W）x623（D）x 1350（H）mm /130kg |
電源 | 單相交流 220V 、50Hz、1KW |
耗材附件 | 預對中燈絲，樣品托，碳導電膠帶，導電銀膠，工具 |
可選配置 | 樣品室攝像機 | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置 |
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