安捷倫ICP-MS等離子體質(zhì)譜的ICP-MS技術(shù)在分析能力上，超過(guò)傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)(ICPAES)、石墨爐原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技術(shù)(CVAAS)的總和，被稱為當(dāng)代分析技術(shù)激動(dòng)人心的發(fā)展。

安捷倫ICP-MS等離子體質(zhì)譜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域包括：

環(huán)境樣品分析，包括自來(lái)水、地表水、地下水、海水以及各種土壤、廢棄物等的分析
半導(dǎo)體材料分析
玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析
地質(zhì)學(xué)研究
生物食品及醫(yī)藥臨床研究
核材料分析
石油化工樣品分析
法醫(yī)應(yīng)用與研究
近，與分離技術(shù)聯(lián)用進(jìn)行環(huán)境毒理、生命科學(xué)等領(lǐng)域的元素價(jià)態(tài)、形態(tài)分析成為ICP-MS技術(shù)應(yīng)用的一個(gè)焦點(diǎn)。

分析特性：

可快速同時(shí)檢測(cè)周期表上幾乎所有元素
低的檢出限（低至ppq級(jí)）
寬的線性動(dòng)態(tài)范圍—可直接檢測(cè)從ppq到數(shù)百ppm濃度
譜線簡(jiǎn)單、干擾小，準(zhǔn)確度和精密度好
需要樣品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分鐘/樣品）
檢測(cè)模式靈活多樣
半導(dǎo)體工業(yè)常用材料中超痕量污染物分析

固體：Si；GaAa單晶切片；石英、碳化硅等爐材料；高純金屬電極等
液體：超純水；HF；HNO3；HCI；H2SO4；H2O2；氨水等
氣體：SiH4；TE0S；NF3；N2等
Agilent  ICP-MS可直接分析有機(jī)樣品。

Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)已被用于測(cè)定一系列有機(jī)樣品的ppt級(jí)痕量污染元素。

對(duì)其中一些樣品，其他方法無(wú)法得到滿意的結(jié)果，高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)分析方法。
強(qiáng)堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等
常用有機(jī)溶劑——甲苯、二甲苯、IPA等
高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發(fā)性*的清洗劑——丙酮、甲醇等